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天津中环电炉股份有限公司
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产品用途：

产品性：

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

 

产品组成：

PECVD系统配置：

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统（可选配中真空或高真空）

产品特点：

生长温度低；沉积速率快；成膜---，适用范围广，设备简单。

 

 

 

 

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